“157nm干式光刻机受到波长的限制，制程工艺只能达到75nm，不如BSEC浸润式光刻机的65nm，而且在提高制程工艺方面的难度较大，难以满足晶圆厂家对先进制程工艺的要求；157纳米技术还有一个先天的...